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| ■三井化学／EUVﾍﾟﾘｸﾙの商業生産を開始 |
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三井化学､EUVﾍﾟﾘｸﾙの商業生産を開始 〜半導体の更なる微細化進展に対応〜 三井化学株式会社 三井化学株式会社（所在：東京都港区､代表取締役社長：橋本 修）は､今般EUVﾍﾟﾘｸﾙの商業生産を開始しましたのでご報告します｡当社は､半導体ﾘｿｸﾞﾗﾌｨｰ分野で世界No.1のASML（Veldhoven, the Netherlands; President & CEO: Peter Wennink）から､本EUVﾍﾟﾘｸﾙ事業のﾗｲｾﾝｽ契約を受け､その設計と技術に基づき同製品の生産設備を当社岩国大竹工場内に新設､今回世界に先駆けて商業生産を行うものです｡当社は､EUVﾍﾟﾘｸﾙなどICT分野関連製品群を通じ､半導体の更なる微細化への貢献など､お客様の技術革新要請に対応することで広く社会に貢献していきます｡ EUVﾍﾟﾘｸﾙとは 今般､第5世代移動通信ｼｽﾃﾑ（5G）導入によるﾃﾞｰﾀ通信の超高速化は､ｽﾏｰﾄﾌｫﾝの更なる高機能化とそれを支える半導体の高性能化をもたらします｡先端ﾃﾞﾊﾞｲｽに用いられる半導体では､回路線幅7nm以下の超微細化が必要であり､超短波長であるEUV露光技術の採用が本格的に拡大しております｡EUVﾍﾟﾘｸﾙはその露光工程で利用されるﾌｫﾄﾏｽｸの防塵ｶﾊﾞｰとなります｡ ASML社とは ASML社は半導体の露光（ﾘｿｸﾞﾗﾌｨｰ）機ﾒｰｶｰ世界最大手であり､EUV露光機及びEUVﾍﾟﾘｸﾙの開発に成功した唯一のﾒｰｶｰです｡ 当社の強みは 当社は､露光工程の防塵ｶﾊﾞｰ｢ﾍﾟﾘｸﾙ｣を1984年に発売して以来､半導体の微細化に合わせたﾍﾟﾘｸﾙの改良と製品品質の向上に努めて参りました｡ﾍﾟﾘｸﾙで培った異物管理などの生産ﾉｳﾊｳがEUVﾍﾟﾘｸﾙの生産にも生かされています｡今後EUV露光機の進化に合わせてEUVﾍﾟﾘｸﾙの技術改良･革新をASML社とともに取り組んでまいります｡ EUV露光機ｲﾒｰｼﾞ図 EUVﾍﾟﾘｸﾙ 用語解説 ＊1 ﾘｿｸﾞﾗﾌｨｰについて 集積回路 ICや液晶ﾃﾞｨｽﾌﾟﾚｲなどの製造において､光を用いて微細な加工を施す技術です｡半導体ｳｪﾊｰ上に感光性有機物質（ﾌｫﾄﾚｼﾞｽﾄ）を塗布し､露光装置を用いて､ﾌｫﾄﾏｽｸに描かれた素子･回路のﾊﾟﾀｰﾝを焼き付けます｡ ＊2 ﾍﾟﾘｸﾙについて ﾌｫﾄﾏｽｸ用防塵ｶﾊﾞｰ｡ﾌｫﾄﾏｽｸをｸﾘｰﾝに保ち､半導体の生産性を向上させるもの｡ﾍﾟﾘｸﾙを使用することで､異物による半導体ｳｪﾊｰの製造不良を防ぎます｡ |
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