昭和電工／高純度臭化水素製造拠点の増強を完了｜物流ﾆｭｰｽ

ﾆｭｰｽ　

用語　

ｾﾐﾅｰ

■昭和電工／高純度臭化水素製造拠点の増強を完了

高純度臭化水素製造拠点の増強を完了－半導体ﾒﾓﾘの需要拡大に対応－　昭和電工株式会社（社長：市川　秀夫）は､半導体製造工程で使用される高純度臭化水素（HBr）の生産能力を従来比１．５倍の年産６００ﾄﾝに増強し､本年３月より稼働を開始しました｡　高純度HBrは､NAND型ﾌﾗｯｼｭﾒﾓﾘやDRAM　等の半導体の製造工程において､ﾎﾟﾘｼﾘｺﾝの微細加工（ｴｯﾁﾝｸﾞ）に使用される特殊ｶﾞｽです｡近年､半導体ﾒﾓﾘは､携帯端末やﾃﾞｰﾀｾﾝﾀｰ向けを中心に需要が拡大しており､今後も年率１０～２０％以上の市場成長が期待されています＊｡　当社は１９９３年より高純度HBr　を製造･販売しており､２００８年にはHBr　の合成工程を自製化しております｡HBr　の合成から高純度ｶﾞｽ精製までの一貫生産体制を有する世界唯一のﾒｰｶｰとして､効率的かつ柔軟な生産体制と高い精製･分析･品質管理技術により､販売量を拡大してまいりました｡今回､お客様への安定供給を維持するため､川崎事業所にある製造設備を増強し､年産６００ﾄﾝの生産体制を確立しました｡　当社は､現在推進中の中期経営計画"PEGASUS（ﾍﾟｶﾞｻｽ）"ﾌｪｰｽﾞIIにおいて､半導体材料ｶﾞｽを成長事業に位置づけております｡当社は今後も､拡大する世界の半導体市場に迅速に対応し､同事業の強化･拡大を図ってまいります｡以上