信越化学工業／台湾にﾌｫﾄﾚｼﾞｽﾄ関連製品の新工場を建設｜物流ﾆｭｰｽ

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■信越化学工業／台湾にﾌｫﾄﾚｼﾞｽﾄ関連製品の新工場を建設

信越化学､台湾にﾌｫﾄﾚｼﾞｽﾄ関連製品の新工場を建設､ﾘｽｸ分散を実現　信越化学工業株式会社（本社：東京､社長：森俊三）は､ﾌｫﾄﾚｼﾞｽﾄ関連事業の拡大をめざし､台湾に工場を新設する｡現在､台湾当局に建設許可を申請しており､許可が取れ次第､建設工事に着手する｡工期は１年程度､投資金額は約１３０億円を見込む｡　ﾌｫﾄﾚｼﾞｽﾄは､半導体ﾃﾞﾊﾞｲｽの製造に欠かせない感光性の樹脂｡ｼﾘｺﾝｳｴﾊｰにﾚｰｻﾞｰ光などの光を照射し､集積回路を焼き付ける露光工程で使われる｡　信越化学は､１９９１年に新規事業を創出する目的で金川千尋会長（当時は社長）を委員長とする｢Z委員会｣を設置｡同委員会のﾃｰﾏの一つとして､ﾌｫﾄﾚｼﾞｽﾄの研究開発に取り組んだ｡　　当時､露光工程では主にg線やi線など高圧水銀ﾗﾝﾌﾟが光源として使われていた｡次世代の微細化に向けては､新たな光源としてKrFｴｷｼﾏﾚｰｻﾞｰが注目されていた｡ﾌｫﾄﾚｼﾞｽﾄ業界に最後発で参入した信越化学は､当初から難度の高いKrFｴｷｼﾏﾚｰｻﾞｰに適したﾌｫﾄﾚｼﾞｽﾄの開発に取り組んだ｡長年培ってきた合成技術を生かし､顧客の求める高感度の製品の開発に成功｡１９９７年に直江津工場（新潟県）で生産を開始した｡　信越化学はさらに､市場が拡大しているArFｴｷｼﾏﾚｰｻﾞｰ用のﾌｫﾄﾚｼﾞｽﾄや､回路ﾊﾟﾀｰﾝの寸法精度を向上させる多層ﾚｼﾞｽﾄ材料を開発｡最先端のﾌｫﾄﾚｼﾞｽﾄ関連製品を顧客に提供することで､事業を成長させてきている｡　ﾌｫﾄﾚｼﾞｽﾄ関連製品の需要は､半導体ﾃﾞﾊﾞｲｽの生産量の増加や微細化の進展により､ｱｼﾞｱとｱﾒﾘｶで伸びている｡信越化学は､需要地の一つである台湾で生産を行うことで､ﾌｫﾄﾚｼﾞｽﾄの需要の伸びを着実にとらえていく｡また､従来の直江津工場と併せﾌｫﾄﾚｼﾞｽﾄ関連事業で２つの生産拠点を持つことでﾘｽｸの分散を実現し､事業の更なる強化を進めていく｡以　上