昭和電工／液晶ﾊﾟﾈﾙ向け低環境負荷型高純度ｶﾞｽ設備を新設｜物流ﾆｭｰｽ

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■昭和電工／液晶ﾊﾟﾈﾙ向け低環境負荷型高純度ｶﾞｽ設備を新設

液晶ﾊﾟﾈﾙ向け低環境負荷型高純度ｶﾞｽ設備の新設　昭和電工株式会社（社長：市川　秀夫）は､このたび､液晶ﾊﾟﾈﾙ向け低環境負荷型の高純度ＣＯＦ２（ﾌｯ化ｶﾙﾎﾞﾆﾙ）製造設備の建設を東長原事業所（福島県会津若松市）において開始いたしました｡設備の年産能力は４００ﾄﾝで､２０１１年７月を目処に完工の予定です｡　液晶ﾊﾟﾈﾙのｶﾞﾗｽ基板を加工する工程において､基板上に形成される薄い酸化膜や窒化膜等のｴｯﾁﾝｸﾞ（注１）には高純度のﾌｯ素系ｶﾞｽが使われます｡ＣＯＦ２の地球温暖化係数の約１はほぼＣＯ２と同じでありｴｯﾁﾝｸﾞ用ｶﾞｽの代表例であるＳＦ６（六ﾌｯ化硫黄）の同係数２３，９００と比較して小さいため､地球温暖化ｶﾞｽの排出抑制に貢献することが期待されています｡さらに､工程内に残留する使用後のｶﾞｽの環境対応上の必要な処理についても､ＣＯＦ２の場合､加水分解により処理の容易なＨＦ（ﾌｯ化水素）とＣＯ２になることから､ＳＦ６やｸﾘｰﾆﾝｸﾞｶﾞｽ（注２）の代表例であるＮＦ３（三ﾌｯ化窒素）と比較すると処理ｺｽﾄや環境に与える負荷において少なく済むことが期待されています｡しかしながらＣＯＦ２の高純度化には技術的課題が多くｺｽﾄが高くなるといった障害により､これまでその普及は進んでいませんでした｡　当社では独自技術による合成法や精製技術の活用により､製造ｺｽﾄの低減､高純度化の実現といった課題を解決し､安定的にお客様に供給できる体制を整えました｡今後､低環境負荷型のｴｯﾁﾝｸﾞ･ｸﾘｰﾆﾝｸﾞｶﾞｽＣＯＦ２の普及に向けて注力いたします｡　当社は､中期経営計画｢ﾍﾟｶﾞｻｽ｣において､半導体やﾃﾞｨｽﾌﾟﾚｰなどのｴﾚｸﾄﾛﾆｸｽ分野で使用される半導体高純度ｶﾞｽを当社ｸﾞﾙｰﾌﾟの成長を牽引する成長･育成分野に位置づけています｡今後も環境に与える負荷の少ない製品の開発に注力し､製品のﾗｲﾝｱｯﾌﾟを充実させて本事業の一層の拡大強化を図ってまいります｡（注１）ｴｯﾁﾝｸﾞ：基板上の薄膜に､微細な溝や孔を刻み電子回路等を作ること（注２）ｸﾘｰﾆﾝｸﾞ：成膜の工程で使われるＣＶＤ炉に付着する不要な化学物質を取り除くこと